Kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió

Kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió

Kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió
A szálláslekérdezés elküldése
A termék bemutatása


ZCP sorozatú kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió

Specifikáció \ Típus

Részecske méret

Százalékos szilárdanyag

PH

ZCP 8020

40 nm

40 százalék

10-11

ZCP 8040

80 nm

40 százalék

10-11

ZCP 8080

110 nm

40 százalék

10-11

Standard csomag

5kg/Btl; 25kg/vödör; 210kg/dob


A ZCP jellemzői és alkalmazása:

A ZCP egy lúgos kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió, amely nagyon szűk részecskeméret-eloszlással és jobb kémiai hatással rendelkezik. Az ACP szuszpenziós típusú, és hosszú ideig stabil marad; Magas koncentrációja miatt a ZCP az ügyfelek telephelyén hígítható. A ZCP alkalmas szilícium lapka, zafír, LT/LN, optika, kerámia alkatrészek és fém alkatrészek kémiai mechanikai polírozására.


AP sorozatú kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió

Specifikáció \ Típus

Részecske méret

Százalékos szilárdanyag

PH

AP 203

40 nm

40 százalék

4

AP 403

80 nm

40 százalék

4

AP 803

110 nm

40 százalék

4

Standard csomag

5kg/Btl; 25kg/vödör; 210kg/dob


Az AP jellemzői és alkalmazása:

Az AP speciálisan savas típusú kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió fém alkatrészek, például rozsdamentes acél, alumínium, titánötvözet stb. tükörfelületi polírozására, savas PH-karakterisztikájának köszönhetően a kémiai kölcsönhatás hatékonyabb lesz a fém alkatrészek polírozásánál, ami segít a tökéletes tökéletesség elérésében. polírozott felület.


Népszerű tags: kolloid szilícium-dioxid polírozó szuszpenzió, Kína kolloid szilícium-dioxid polírozó zagy gyártói, szállítói, gyárai

A szálláslekérdezés elküldése

whatsapp

Telefon

E-mailben

Vizsgálat